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美国禁令初见成效!国产光刻机突破22nm技术,和美国芯片说再见!
点击:  作者:综合    来源:大国战略天下  发布时间:2020-10-02 17:54:44

  

前言:芯片的落后给了美国可乘之机,近几年美国对中国的打压演变成了中美的高科技战争,从中兴被禁,到华为被禁,基本上都是瞄准了中国的软肋。而在华为芯片被禁之后,我们也终于下定决心研发光刻机,准备向半导体领域的高地发起进攻。而这场关乎中国半导体未来的攻坚战,势必也会载入史册。

 

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想要制造出高端芯片就离不开高端光刻机,目前全球的光刻机基本上都被荷兰的阿斯麦公司掌握,但是这家公司的技术使用到了美国的技术,所以即使阿斯麦想要出口给大陆光刻机,美国的阻挡也不会成功。我们目前只有一条路可走,那就是自研光刻机。

 

但是制造一个高端光科技谈何容易,需要上万个精密仪器,光靠一家企业完全不可能成功。但是美国的禁令给华为乃至中国的半导体打入了一剂催化剂。目前国家已经投入巨资,由中科院领导的造芯大战也已经开启,国家要求在2025年前国产芯片的自给率将要达到75%,而国家投入的巨资也终于看到的效果。

 

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就在前不久,中国北斗三号芯片成功突破了22纳米的限制,而上海微电子技术也再次获得突破,成功研发出了22nm的光刻机。从技术角度来讲,虽然我国获得的突破和外国技术相比还有一定差距,但从整体进程来看,我国半导体行业和外国的差距正在慢慢减小。

 

可以说是美国的禁令初见成效,你不给我芯片供应链,那么我就自己生产,我自己投入资金搞科研,外国人能搞成的事情,我也们也能搞得成。

 

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虽然,目前的芯片工艺和国外尚有差距,但是芯片的发展贵在技术以及经验的积累,相信突破第一步之后,后续的道路会好走很多。不出几年,美国的芯片终会成为历史。

责任编辑:红星
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